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全自动电位滴定法测定氧化硅的硅羟基含量-上海奶茶视频污下载仪器仪表有限公司




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    全自动电位滴定法测定氧化硅的硅羟基含量

    发布时间:2025/12/8   点击次数:5
     
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    1 前言

    氧化硅是由卤硅烷在高温火焰中形成的非晶质二氧化硅,表面含有硅羟基。在制造混炼胶中,氧化硅的硅羟基含量会直接影响到混炼胶的稳定性,因此,硅羟基含量的多少成为衡量其品质的指标。硅羟基的含量是指单位质量测试样品的硅羟基的数量,以羟基质量与样品质量的百分比( wt% )表示。本实验基于硅羟基是路易斯酸,可进行离子交换反应,所以采用酸碱滴定测定其氧化硅的硅羟基含量,实验过程操作简单,数据重复性较好,也可以搭配自动进样器,省时省力。

    2 仪器与设备

     

    2.1 仪器

    JH-T6全自动 电位滴定仪,复合 PH 电极。

    2.2 试剂

    酸溶液( 0.1 mol/L ),氢氧化钠溶液( 0.01 mol/L ),去离子水,无水乙醇,氯化钠液( PH=3 )。

    3 实验方法

     

    3.1实验步骤

    3.1.1 氯化钠溶液的配制

    准确称取分析村氯化钠 200g ,溶于 0.9mL 去离子水中,使用 0.1mol/L 的盐酸溶液将溶液调至 PH=3(±0.1) ,转移至 1L 容量瓶,定容。

    3.1.2 标定电极


    使用 PH4.016.869.18 的缓冲溶液标定 PH 复合电极。

    3.1.2 滴定

    空白测定: 用量筒量取 150mL 氯化钠溶液,和 50mL 无水乙醇,置于 250mL 烧杯中,置于滴定台上,开启搅拌,插入电极,用氢氧化钠滴定液滴定至 PH  4 9 的终点,记下滴定体积,计算体积差值。

    样品测定: 准确称取样品 1.5( ±0.01g) ,将样品放于 250mL 烧杯中,加入 150mL 氯化钠溶液和 50mL 无水乙醇,开启搅拌2min ,使其混合均匀。若 PH 高于4 ,用 0.1moL/L 盐酸溶液调节 PH3.95 ,将烧杯放于滴定台上,启动方法,用 0.01mol/L 氢氧化钠滴定液滴定至 PH 4 9 的终点,计算体积差值。

    3.2 参数设置

     

    滴定模式

    终点滴定

    滴定前平衡电位

    6mV

    搅拌速度

    7

    结束体积

    10mL

    快滴体积

    0.2mL

    慢滴体积

    0.05mL

    快滴电位平衡时间

    4s

    快滴平衡电位

    1mV

    慢滴电位平衡时间

    4s

    慢滴平衡电位

    1mV

    滴定终点 1

    4

    预控值

    3.9(延时 10s

    滴定终点 2

    9

    预控值

    8.6(延时 10s

     

    4 结果与讨论

    4.1 实验结果

     

     

    样品名称

     

    样品编号

    滴定液浓度 mol/L

    取样量 g 

    滴定体积V1 mL 

    空白体积 V0  mL

    含量 % 

    平均值 % 

     

    氧化硅

    1

     

    0.01009

    1.50052

    2.465

     

    1.775

    0.00789

     

    0.0079

    2

    1.50291

    2.485

    0.00811

    3

    1.50219

    2.436

    0.00755


    计算公式

    image.png

    式中:

    ɑ是硅羟基的含量,质量百分数,单位是%;

    V1,V0 分别是滴定样品和空白从 PH4 9 所消耗的滴定液的体积;

    17.007 是羟基的摩尔质量;

    m 是样品的质量

    4.2 结论

     

    JH-T6 全自动电位滴定仪测定氧化硅的端羟基含量的结果重复性较好 ,测定结果都在其标准范围内 ( 0.01% ),JH-T6 全自动电位滴定仪是满足该样品测定需求的。


     
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